spectroscopy)
Phương phỏp này dựa trờn hiệu ứng quang điện tử (photoelectronic effect). Hiệu ứng này được tạo ra khi người ta chiếu một chựm bức xạ cú bước súng rất ngắn vào bề mặt vật liệu (kim loại, phi kim, chất lỏng) thỡ một số electron cú thể thoỏt ra do chỳng hấp thụ năng lượng từ cỏc bức xạ điện từ tương tỏc với vật liệu. Cỏc electron đú được gọi là photoelectron.
Bằng cỏch đo năng lượng liờn kết của cỏc photoelectron đối với hạt nhõn
nguyờn tử khi chiếu xạ bằng chựm tia X người ta cú thể phỏt hiện cỏc nguyờn tố ở
độ oxy húa, độ chuyển dịch electron). Năng lượng liờn kết El của cỏc photoelectron phụ thuộc vào động năng của chỳng theo hệ thức sau:
1253, 6
l C
E E e
Trong đú: EC là động năng của photoelectron; e năng lượng đặc trưng riờng cho thiết bị, khụng phụ thuộc vào vật liệu; giỏ trị 1253,6 là năng lượng của
chựm tia X (phỏt ra từ MgK, eV).
Phộp đo XPS trong luận ỏn này được thực hiện trờn mỏy XPS Advance 32
(Canada). Cỏc phộp đo được chuẩn (so sỏnh) với năng lượng liờn kết của electron 1s của cacbon (C-1s, 285,0 eV) hoặc oxy (O-1s, 532,4 eV).
Phổ XPS thường được biểu diễn trong một đồ thị mà trục tung ghi cường độ dũng photoelectron N(E), trục hoành ghi cỏc giỏ trị năng lượng liờn kết của cỏc
electron ứng với cỏc phõn lớp trong vỏ electron của nguyờn tử.
Hỡnh 2.6 là vớ dụ về phổ XPS của chất xỳc tỏc rắn Rh/Al2O3 được điều chế bằng cỏch tẩm dung dịch muối RhCl3 trờn Al2O3.
Mỗi một nguyờn tử hay ion của nguyờn tố cú một tập pic đặc trưng riờng
cho nguyờn tố đú. Dựa vào cỏc số liệu El chuẩn, người ta cú thể phỏt hiện được sự tồn tại của cỏc nguyờn tố và thành phần trờn bề mặt vật liệu xỳc tỏc rắn.
Hỡnh 2.6. Phổ XPS của chất xỳc tỏc rắn Rh/Al2O3 Cư ờng đ ộ d ũng ele ctron (cp s)